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Schaltungstechnologie Co-Optimierung des SRAM-Designs in erweiterten CMOS-Knoten von Hsia

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As technology scales, increasing resistance and capacitance (RC) lead designers to adopt smaller subarray sizes to reduce effective RC and enhance subarray-level PPA. This book examines the effects of various subarray sizes on macro-level PPA and finds that larger subarrays can significantly reduce interconnect overhead and improve the energy-delay-area product (EDAP) of SRAM macro.

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