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LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films: Material and Applications in Integra

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1 Characterization of LPCVD Silicon Oxynitride Films. - I. Introduction. Characterization Techniques. Results and Discussion. Concluding Remark. - 3 Oxidation of Low Pressure Chemical Vapour Deposited Silicon Oxynitride Films.

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ISBN-13:

9783540539544
Book Title:

LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films
ISBN:

9783540539544

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